說起光刻機，大家最先想到的是誰，當然是ASML，這可是真正的巨無霸，全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機的廠商，另外在DUV等光刻機領域，也是霸主。

而除了ASML之外，日本還有尼康、佳能，中國大陸還有上海微電子，這三家企業(yè)相對于ASML，不管是技術水平，還是市場份額，確實低很多。

如下圖所示，這是三家廠商在光刻機領域領域的市場份額情況，ASML一家就獨占80%+份額。

但事實上，大家不知道的是，這里的份額，主要指的是前道光刻機。

光刻機其實分為兩種，一種是前道光刻機，用于芯片制造的光刻機，比如EUV、DUV這些，這一塊確實是ASML、尼康、佳能這三大廠商稱雄。

但還有一種叫做后道光刻機，用于芯片封裝的光刻機，這一種光刻機實現(xiàn)高性能的先進封裝，相對于前道芯片制造的光刻機而言，技術難度相對較小一些，但也是芯片制造過程中不可或缺的，這一塊，國產(chǎn)光刻機的力量可是很強大的。

近日，國產(chǎn)光刻機龍頭上海微電子的數(shù)據(jù)顯示，目前其后道封裝光刻機在全球市場的市占率為37%，在中國大陸市場的占有率高達85%，還有LED系列光刻機全球市占率55%。

去年的時候，上海微電子更是推出中國第一臺2.5D/3D先進封裝光刻機，并且正式交付客戶，全球的封裝大廠，均大量采購了上海微電子的光刻機進行芯片封裝。

可見，雖然在前道光刻機領域，國產(chǎn)并不是特別給力，市場份額很少，但在后道光刻機領域，還是相當給力的，全球占三分之一，國內(nèi)更是處于壟斷地位，并不遜色于其它光刻機巨頭，只是大家的賽道不同而已。

事實上，除了后道光刻機很強之外，從前道技術來看，上海微電子的光刻機，也并不是那么的差，也是有一戰(zhàn)之力的。

如上圖所示，上海微電子與佳能，其實是一檔的，實現(xiàn)了ArF、KrF、i線、G線，工藝制程是90nm+，只要再進前一點，就可能達到ArFi，也就是浸潤式光刻機，那就相當于達到7nm了。

所以說，別小看了國產(chǎn)光刻機，它在后道這一塊，已經(jīng)是全球巨頭了，在前道這一塊，起步晚，所以比ASML等差一些，但已經(jīng)在追趕了，估計很快就會追上的。