彭博社引述消息人士報道，美光有望從日本政府獲得約2000億日元（約15億美元）財政補貼資金，以幫助其在日本生產(chǎn)下一代存儲芯片。

當?shù)貢r間周三，美光科技表示，在日本政府的支持下，在未來幾年內(nèi)向極紫外 (EUV) 技術(shù)投資最多5000億日元（約37 億美元）。

報道稱，最新的EUV芯片制造設備被引入美光廣島工廠，用于生產(chǎn)其下一代DRAM芯片（1-gamma節(jié)點）。

該公司表示，美光將成為第一家將EUV技術(shù)引入日本進行生產(chǎn)的半導體公司，并補充說，預計從2025年起將加大1-gamma的在中國臺灣地區(qū)和日本的生產(chǎn)力度。

國際電子商情了解到，去年實施的《半導體援助法》是日本努力提升國內(nèi)半導體生產(chǎn)的最新舉措，對于符合要求的芯片制造企業(yè)，將有可能獲得“半額”設備費用的補助資金。

《半導體援助法》對在日本國內(nèi)興建先進半導體工廠提供補貼的“特定高度情報通信技術(shù)活用系統(tǒng)開發(fā)供給導入促進法（5G法）”等相關(guān)法案自2022年3月1日實行，只要申請企業(yè)提出的生產(chǎn)計劃符合“持續(xù)生產(chǎn)10年以上”、“供需緊繃時能增產(chǎn)應對”等條件，最高將可獲得設備費用“半額”的補助金。

眾所周知，半導體行業(yè)的發(fā)展程度是國家科技實力的重要體現(xiàn)，全球主要國家和地區(qū)競相發(fā)展的重要新興技術(shù)和產(chǎn)業(yè)。和其他國家一樣，日本近年來也一直在努力重振其芯片行業(yè)，其全球市場份額已從1980 年代后期的約50%降至約10%。