中商情報網(wǎng)訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，本質(zhì)是一種感光材料，是電子領(lǐng)域微細圖形加工的關(guān)鍵性材料，在半導(dǎo)體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。近年來，隨著集成電路的快速發(fā)展，光刻膠行業(yè)景氣度不斷提高。

市場結(jié)構(gòu)

按照下游應(yīng)用，光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠、PCB光刻膠，其中，半導(dǎo)體光刻膠主要應(yīng)用于半導(dǎo)體元器件制作中，市場占比22%。

數(shù)據(jù)來源：Reportlinker、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

市場分布

按曝光波長分，半導(dǎo)體光刻膠按照曝光波長不同可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新興起的EUV光刻膠5大類，高端光刻膠指KrF、ArF和EUV光刻膠。數(shù)據(jù)顯示，2021年ArFi+ArF光刻膠占全球光刻膠市場規(guī)模的比例為48.1%，KrF占比34.7%，G/I線占14.7%。

數(shù)據(jù)來源：TECHCET、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

競爭格局

從競爭格局來看，日本企業(yè)在半導(dǎo)體光刻膠市場占據(jù)主導(dǎo)地位，東京應(yīng)化渣比最高達25%。其次，JSR、日本信越、住友化學占比分別為17%、16%、11%，Dow占比9%。

數(shù)據(jù)來源：Reportlinker、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理