最新消息，ASMLQ4 預(yù)測(cè)凈銷(xiāo)售額64億歐元，毛利率49%，相比三季度，毛利率略有下滑。

CINNO Research日前發(fā)布了2022年第三季度全球上市公司半導(dǎo)體設(shè)備制造商業(yè)務(wù)營(yíng)收排名，其中排名前十位企業(yè)營(yíng)收合計(jì)達(dá)275億美元，約合人民幣1983億元，同比增長(zhǎng) 8.6%，環(huán)比增長(zhǎng) 14.9%。

其中，排名第一的是美國(guó)應(yīng)用材料公司（AMAT），2022 年第三季度營(yíng)收近64億美元，約合人民幣461.億元；排名第二位的是荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公司（ASML）；排名第三位的是美國(guó)泛林公司（LAM）；排名第四位的是日本東電電子公司（TEL）。CINNO Research表示，這前四大公司的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)2022年前三季度的營(yíng)收合計(jì)均已超過(guò)125億美元約合人民幣901億元，并且2022 年第三季度單季營(yíng)收均為今年最高季度營(yíng)收。

ASML市場(chǎng)占有率84%

三季度，ASML共售出86臺(tái)光刻機(jī)，在中國(guó)市場(chǎng)的收入占比達(dá)15%。

ASML執(zhí)行副總裁兼首席財(cái)務(wù)官（CFO）羅杰·達(dá)森（Roger Dassen）表示，盡管不能對(duì)華出口最先進(jìn)的設(shè)備，可能會(huì)對(duì)公司工具需求產(chǎn)生間接影響，但其仍能向中國(guó)大陸制造商提供非EUV光刻工具。

光刻機(jī)單機(jī)價(jià)值量高，每年出貨數(shù)量約 300~400 臺(tái)，其中 EUV 的供應(yīng)比較有限。根據(jù)ASML、Nikon、Canon 三家光刻機(jī)財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，近兩年全球光刻機(jī)每年出貨量大約在300~400 臺(tái)之間，整體均價(jià)約0.3億美元。其中主要產(chǎn)品是KrF約90~100臺(tái)，ArFi約90~100臺(tái)。近幾年EUV出貨量在 逐步增長(zhǎng)，全球僅有ASML具備供應(yīng)能力，每年出貨30~50臺(tái)，均價(jià)超過(guò)1億美元。

ASML主導(dǎo)全球光刻機(jī)市場(chǎng)。從光刻機(jī)格局來(lái)看，2020年ASML占據(jù)全球 光刻機(jī)市場(chǎng)84%的市場(chǎng)空間，Nikon約7%，Canon約5%。ASML具有高度的壟斷地位，并且由于EUV 跨越式的升級(jí)進(jìn)步，ASML在技術(shù)上的領(lǐng)先性更加明顯。  

全球光刻機(jī)龍頭ASML，高研發(fā)、高利潤(rùn)率。ASML在2020年?duì)I業(yè)收140億美元，其中 75%的收入來(lái)自于銷(xiāo)售設(shè)備，25%的收入來(lái)自于服務(wù)。綜合毛利率52%，營(yíng)業(yè)利潤(rùn)率35%，凈利率32%。全年平均ROE約27%。

ASML：一家美國(guó)公司？

在ASML發(fā)展壯大過(guò)程中英特爾投了41億美元，拿下15%的股份，一度是最大股東，而臺(tái)積電投了14億美元占5%，而三星投了8億歐元占3%。而剩余的77%就是ASMI，以及其它投資者一共拿走了。

但后來(lái)EUV光刻機(jī)研發(fā)出來(lái)后，ASML股價(jià)大漲，于是intel、三星、臺(tái)積電又大量賣(mài)出ASML的股票，目前英特爾的股份已低于3%，而三星、臺(tái)積電甚至低于1%了。

從現(xiàn)在公開(kāi)的數(shù)據(jù)來(lái)看，ASML第一大股東是Capital Research and Management Company（美國(guó)資本國(guó)際集團(tuán)），擁有15.81%的股份。第二大股東是BlackRock Inc.（美國(guó)的黑巖集團(tuán)），擁有7.95%的股份。第三大股東是Baillie Gifford（英國(guó)柏基投資），擁有4.54%的股份。

其它的股權(quán)都非常分散，持股機(jī)構(gòu)高達(dá)1000多家，都是低于3%的一些小機(jī)構(gòu)、小股東持股，所以總體來(lái)看，ASML是受美國(guó)資本控制的。

這也是為何ASML明明是一家荷蘭企業(yè)，卻總是聽(tīng)命美國(guó)的原因，ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，一般也是優(yōu)先供應(yīng)給intel、臺(tái)積電、三星這三家廠商。所以光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化十分急迫。

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)迎來(lái)黃金時(shí)刻

值得欣慰的是，上海微 90nm 光刻機(jī)項(xiàng)目已經(jīng)正式通過(guò)驗(yàn)收。上海微在 2002 年成立。2006 年公司光刻機(jī)產(chǎn)品注冊(cè)商標(biāo)獲得國(guó)家工商局批準(zhǔn)。2013 年國(guó)產(chǎn)首臺(tái)用于 2.5 代 AM-OLED TFT 電路制造的光刻機(jī)成功交付用戶(hù)。2016 年，首臺(tái)暨國(guó)內(nèi)首臺(tái)前道掃描光刻機(jī)交付用戶(hù)。2018 年90nm 光刻機(jī)項(xiàng)目通過(guò)正式驗(yàn)收。

SSX600 系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平 技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可滿(mǎn)足 IC 前道制造 90nm、 110nm、280nm 關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。該設(shè)備可用于 8 寸線或 12 寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

我國(guó)上海微電子生產(chǎn)的90nm的光刻機(jī)，可以用來(lái)做電源管理芯片、LCD驅(qū)動(dòng)芯片、WiFI芯片、射頻芯片、各類(lèi)數(shù)模混合電路等。90nm工藝的芯片完全可以滿(mǎn)足國(guó)民生產(chǎn)需求。芯片有幾十萬(wàn)種，可以說(shuō)70%的都是中低端光刻機(jī)生產(chǎn)的。

此外，90nm光刻機(jī)經(jīng)過(guò)兩次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以達(dá)到22nm的水平。

上海微電子生產(chǎn)的光刻機(jī)中的大部分零件都是通過(guò)全國(guó)采購(gòu)所得，而自身專(zhuān)注于提升 核心技術(shù)、滿(mǎn)足顧客需求。高度外包使得上海微電子可以有充足的資金用于提升光刻機(jī)的核心技術(shù)，創(chuàng)造巨大的技術(shù)壁壘。通過(guò)零件外包，將大部分物力、人力布局于光刻機(jī)核心技術(shù)的研發(fā)，利于充分利用有限的資源速取得技術(shù)突破。

圖：來(lái)源于方正證券

不僅僅是上海微電子在發(fā)力光刻機(jī)，最近華為公布了一項(xiàng)與EUV光刻機(jī)相關(guān)的專(zhuān)利，能夠提升光刻機(jī)的精度以及良品率。

據(jù)介紹，華為的這項(xiàng)專(zhuān)利發(fā)明的核心內(nèi)容，是提供了一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法，能夠解決相干光icon因形成固定的干涉圖樣而無(wú)法勻光的問(wèn)題，而且，華為研制的光刻設(shè)備可以在不改變光刻設(shè)備與基板的相對(duì)位置的情況下制備所需的圖案，從而避免了平移步驟和對(duì)準(zhǔn)步驟，從而提高了處理效率以及在基板上的形成。

靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工藝和裝備只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修遠(yuǎn)兮，我國(guó)要想在光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)完全自主國(guó)產(chǎn)化，還有很長(zhǎng)的路要走。