全球光刻機龍頭ASML（阿斯麥）今日公布了截至2022年6月30日的第二季度財務數據。

財報顯示，ASML二季度銷售收入為54.3億歐元（約合人民幣375.46億元），高于之前給出的51億至53億歐元的財測目標，相比2021 年同期的40億歐元增長約35.75%；凈利潤為14.1億歐元（約合人民幣97.55億元），相比去年同期的10.4億歐元增長約35.58%；毛利率為49.1%，符合之前預期的毛利率約49%-50%的區間。

 

ASML表示，銷售收入和凈利潤同比大幅提升的原因是新訂單量創歷史新高，盡管有跡象表明銷售增長在放緩，但該公司仍在盡可能快地向客戶交付設備。

不過，根據路孚特數據顯示，雖然ASML第二季度收入超過了分析師預期的52.8億歐元，但是其利潤則低于分析師預期的14.4億歐元。

對此，ASML表示，這主要是因為受到了通貨膨脹導致成本上升的影響，使得利潤率出現下滑。此外，一些系統在荷蘭進行全面測試之前就開始向客戶發貨，導致了延遲確認收入，從而影響了收益。

二季度交付了12臺EUV光刻機，設備銷售額占比已達48%

從具體的凈系統銷售明細來看，二季度的凈系統銷售額為41.41億歐元，其中EUV光刻系統的銷售額占比已經由一季度的26%大幅提升到了48%，ArFi系統的銷售額占比則由一季度的47%下滑到了33%。其中，EUV系統的交付量為12臺，ArFi系統的交付量為21臺。

以客戶端應用劃分來看，二季度ASML凈系統銷售額的71%的收入來自于邏輯芯片制造廠商，29%來自于存儲芯片制造廠商。以營收來源的區域劃分來看，二季度ASML凈系統銷售額的41%來自于中國臺灣地區，33%來自于韓國，10%來自于中國大陸。值得注意的是，來自美國的占比由一季度的6%快速提升到了10%。

 

二季度預定金額創新高，High-NA EUV系統占比達63.8%

此外，ASML二季度的凈預訂金額達到了84.6 億歐元（約合人民幣583.55已元，一季度為70億歐元），創下歷史新高。其中就包括了包括 0.33 NA EUV系統和0.55 NA的High-NA EUV系統的54億歐元預定金額，占比高達63.8%。作為對比，ASML一季度來自0.33 NA和0.55 NA EUV系統的預定金額僅有25億歐元。

 

ASML目前正在開發當中的高數值孔徑 (high-NA) EUV光刻機是基于 0.33 數值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統的迭代產品，其具有 0.55 數值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米，而現有的0.33 數值孔徑透鏡的 EUV 光刻系統的分辨率為 13 納米，使得芯片制造商能夠生產3/2nm及以下更先進制程的芯片，并且圖形曝光的成本更低、生產效率更高。

據了解，第一代的0.55 NA EUV光刻機EXE:5000主要面向的是3nm工藝。而第二代的0.55 NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200將會被用于2nm工藝的生產。

根據資料顯示，ASML的新一代High-NA EUV系統的單臺售價將達到約4億美元，這也是ASML二季度預定金額大幅增長的關鍵。

在去年的年報當中，ASML有指出，其在2021年四季度就已經收到了首個第二代的0.55 NA EUV系統（TWINSCAN EXE:5200）的訂單，預定的客戶是英特爾。英特爾計劃利用ASML的0.55 NA EUV系統來生產其Intel 20A制程。而在此之前，自2018年以來，截至2021年四季度末，ASML已經收到四份第一代的0.55 NA EUV系統TWINSCAN EXE:5000的訂單。

此外，據BusinessKorea 報道，三星已就引進今年生產的 EUV 光刻設備和計劃于明年推出的 High-NA EUV 光刻設備與ASML達成了協議。

ASML在二季度財報公布后披露了公司的 High-NA EUV業務進展，目前ASML已收到了來自供應商的第一臺高數值孔徑（High-NA）機械投影光學器件、光源以及新的晶圓載物臺。這些模塊將用于初始測試和集成，這是 EXE:5000系列的重要一步進展。

三季度銷售額預計為51～54億歐元，全年增長目標降至10%

對于三季度的業績指引，ASML預計凈銷售額在51億歐元到54億歐元之間，其中包括安裝管理收入約14億歐元。后續季度延遲確認的凈收入約為11億歐元。毛利率在49%到50%之間。研發成本約8.1億歐元。

由于供應鏈限制，ASML預計2022年銷售額同比增長約10%，較此前預期增長20%大幅下修。毛利率在49%-50%之間

ASML 首席執行官 Peter Wennink 表示：“一些客戶在某些消費者驅動的細分市場中顯示出需求放緩的跡象，但我們仍然看到對我們系統的強勁需求。雖然我們仍計劃在今年交付創紀錄數量的系統，但供應鏈限制的增加導致出現了延遲。”