- 聯(lián)電與英特爾共同開發(fā)12nm制程平臺(tái)，兩大芯片巨頭合作有何目的
- 英特爾與聯(lián)電宣布12nm制程工藝合作
- 中國最先進(jìn)的芯片設(shè)備：刻蝕機(jī)技術(shù)，已達(dá)3nm，試驗(yàn)2nm
- 性能效率“全面超越”，消息稱臺(tái)積電 2025 年為蘋果量產(chǎn)2nm 芯片
- 繞開先進(jìn)工藝，中科院用22nm，造1600核心的超級(jí)芯片
- 2nm的“失敗者聯(lián)盟”
- 2nm制程已無異議，但1nm怎么實(shí)現(xiàn)？這項(xiàng)技術(shù)至關(guān)重要
- 2nm芯片將量產(chǎn)？ASML首臺(tái)光刻機(jī)已交付，外媒：臺(tái)積電輸?shù)脧氐?/a>
- 建廠成本高達(dá)280億美元，2nm晶圓代工不是好拿下的！
- 消息稱英特爾將向聯(lián)電獲取12nm技術(shù)授權(quán)，以便發(fā)力Arm架構(gòu)芯片代工
