TEL社長親自赴臺積電為2nm竊密案道歉,嫌疑人或被判14年有期徒刑
關(guān)鍵詞: Tokyo Electron前員工竊密案 臺積電2nm技術(shù)被竊 河合利樹道歉 臺積電竊密案
Tokyo Electron(TEL)前員工涉及竊取臺積電2nm技術(shù)案,9月10日傳出,TEL社長兼CEO河合利樹赴新竹與臺積電董事長暨總裁魏哲家會面,針對竊密案親自道歉,并提出后續(xù)處理方向。
SEMICON Taiwan 2025國際半導(dǎo)體展近期于南港展覽館盛大登場,焦點(diǎn)意外落在河合利樹身上。
據(jù)了解,傳出河合利樹赴新竹與魏哲家會面,為前員工涉及2nm技術(shù)泄露案親自道歉,并提出后續(xù)處理方向。熟知內(nèi)情人士透露,河合利樹每年參與中國臺灣半導(dǎo)體展,固定拜訪魏哲家。
今年因泄密案敏感,河合利樹選擇低調(diào)不公開露面,避免尷尬。雖然兩人密會細(xì)節(jié)并未對外說明,但被視為TEL對此事件的正式表態(tài),也成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)關(guān)注焦點(diǎn)。
9月10日,中國臺灣經(jīng)濟(jì)部門負(fù)責(zé)人龔明鑫拒絕就針對臺積電2nm制程技術(shù)的商業(yè)機(jī)密竊取案發(fā)表評論,因擔(dān)心此案可能影響中國臺灣和日本的關(guān)系。龔明鑫表示,調(diào)查應(yīng)遵循證據(jù),并強(qiáng)調(diào)經(jīng)濟(jì)部門尊重司法部門的調(diào)查結(jié)果。
據(jù)稱,一名加入TEL的前臺積電工程師,在試圖提升這家日本半導(dǎo)體設(shè)備制造商正在開發(fā)的2nm蝕刻機(jī)性能時,得到了兩名臺積電員工的幫助,涉嫌竊取臺積電的商業(yè)機(jī)密。三人均因涉嫌泄密事件被起訴,并被公司解雇。
此案令人意外,因?yàn)樯婕暗氖且患胰毡竟镜膯T工。
中國臺灣高等檢察院目前正在努力證實(shí)這些工程師是單獨(dú)行動,還是受日本公司指使。如果涉嫌泄密的幕后黑手不是TEL及其中國臺灣子公司,那么將為這家日本公司洗脫罪名。
由于臺積電的2nm技術(shù)代表著全球最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝,該案已根據(jù)中國臺灣安全法案提起公訴。如果工業(yè)間諜罪名成立,三名嫌疑人可能面臨嚴(yán)厲的監(jiān)禁。
外界猜測了這名TEL工程師涉嫌竊取臺積電2nm制程技術(shù)數(shù)據(jù)的動機(jī)。有報道稱,該工程師在TEL面臨業(yè)績壓力,早在2023年8月就向仍在臺積電工作的前同事尋求幫助。據(jù)稱,其目的是獲取關(guān)鍵數(shù)據(jù),以使得TEL的設(shè)備能夠通過臺積電的驗(yàn)證,從而促進(jìn)交易和采購。
臺積電發(fā)現(xiàn)違規(guī)行為,并于2025年7月8日向中國臺灣檢察機(jī)關(guān)和調(diào)查人員報告了涉嫌泄密事件,案件由此曝光。調(diào)查局立即展開了兩輪搜查和訊問。中國臺灣當(dāng)局認(rèn)定此案嚴(yán)重威脅地區(qū)安全和行業(yè)競爭,并已獲得法院批準(zhǔn)拘留嫌疑人。檢察機(jī)關(guān)正在尋求對被告判處7至14年有期徒刑。
近年來,中國臺灣高科技產(chǎn)業(yè)屢屢遭遇來自其他地區(qū)的競爭對手挖角高級研發(fā)人才、竊取核心產(chǎn)業(yè)技術(shù)等事件,嚴(yán)重影響了中國臺灣的高科技發(fā)展和競爭力。鑒于《商業(yè)機(jī)密法》的不足,中國臺灣安全法案新增了保護(hù)措施,明確懲處任何為其他國家/地區(qū)或外國機(jī)構(gòu)竊取中國臺灣核心技術(shù)的行為。
2025年3月31日,中國臺灣宣布修訂核心技術(shù)清單,共計32項(xiàng),其中包括14nm以下集成電路制程及相關(guān)的關(guān)鍵氣體、化學(xué)品和設(shè)備技術(shù)。用于人工智能(AI)計算的高性能(HPC)芯片設(shè)計技術(shù)也被納入清單。被判犯有經(jīng)濟(jì)間諜罪的違法者將面臨5至12年的監(jiān)禁,并處以500萬元新臺幣(16.5萬美元)至1億元新臺幣的罰款。(校對/趙月)
